Thermal ion-molecule reactions in oxygen-containing molecules. Ion-molecule clustering reactions in trioxane

熊倉 稔; 伊藤 彰彦; 林晃 一郎*; 杉浦 俊男

Int.J.Mass Spectrom.Ion Phys., 30(3-4), p.331 - 343, 1979/00

トリオキサンにおけるクリスタリング反応は飛行時間型質量分析計を使用して研究した。クラスターイオンとして(CHO)H(n=3~9)が生成される。CHOHおよび(CHO)Hによって開始される反応の第一段階プロセスは三次反応機構であり、又第二段階プロセスは二次反応機構で進行することが明らかになり、更に(CHO)Hの初期プロセスは三次反応であり、その後期プロセスは二次反応機構であった。トリオキサンにおける三次クリスタリング反応の反応速度定数は簡単な構造の化合物の場合における反応速度定数よりも2~4桁位大きいことが判明した。なおこれら実験的に求められた反応速度定数はクラスター分子の振動の自由度の数を考慮した理論式から算出した値とほぼ一致することが明らかになった。クラスター反応においてはクラスター分子の分子構造がイオンの安定性に関係していることが推定された。